Vysoko čistý izostatický grafit pre polovodiče

Vysoko čistý izostatický grafit Semixlab sa vďaka svojej vysokej čistote, jemnozrnnej štruktúre, rovnomernej hustote, odolnosti voči tepelným šokom a vynikajúcej obrobiteľnosti široko používa v polovodičovom priemysle. Nižšie sú uvedené hlavné hotové produkty a ich zodpovedajúce úlohy v kritických procesoch:

Izostatický grafit pre polovodičové aplikácie

1. V MOCVD (chemická depozícia z pár kovov a organických zlúčenín)

MOCVD je základný proces výroby epitaxných vrstiev GaN, GaAs a SiC. Izostatický grafit sa bežne používa na výrobu:

● Susceptory: Slúžia ako nosiče doštičiek, ktoré držia a otáčajú doštičky vo vnútri reaktora. Zabezpečujú rovnomerný prenos tepla, čím zabezpečujú konzistentný epitaxný rast po celom povrchu doštičky. Zvyčajne sú potiahnuté CVD SiC alebo TaC na zlepšenie chemickej odolnosti a predĺženie životnosti.

● Nosiče doštičiek / grafitové lodičky: Používajú sa na súčasné vkladanie viacerých doštičiek. Vyžadujú si presné obrábanie, aby sa zachovala rovinnosť doštičiek a zabránilo sa kontaminácii.

● Vykurovacie telesá: Grafitové vykurovacie telesá poskytujú stabilné a rovnomerné tepelné polia nevyhnutné pre vysoko kvalitnú epitaxiu.

Kľúčová úloha: Izostatický grafit zaisťuje rovnomernosť teploty, chemickú stabilitu a dlhú životnosť, čo priamo ovplyvňuje kvalitu epitaxného filmu.

2. V žíhacích a difúznych peciach

Kroky tepelného spracovania pri vysokých teplotách, ako je difúzia dopantov, oxidácia a žíhanie, sa vo veľkej miere spoliehajú na izostatické grafitové zložky, vrátane:

● Difúzne lodičky pece: Držia doštičky počas žíhania pri vysokých teplotách a procesov difúzie dopantov. Grafit poskytuje vynikajúcu tepelnú stabilitu a minimálnu deformáciu pri opakovanom tepelnom cyklovaní.

● Vložky a izolačné komponenty: Grafitové vložky a štíty chránia komory pece pred kontamináciou a zvyšujú rovnomernosť teploty.

● Vykurovacie trubice a články: Používajú sa ako odporové ohrievače vo vysokoteplotných prostrediach, kde poskytujú presné a konzistentné teplo.

Kľúčová úloha: Izostatické grafitové komponenty umožňujú tepelné spracovanie bez kontaminácie, stabilné a opakovateľné, čo je kľúčové pre aktiváciu dopantov a redukciu defektov.

3. V epitaxii SiC (rast 4H-SiC, 6H-SiC)

Epitaxný rast SiC vyžaduje ultravysoké teploty (> 1500 °C) a prostredie s korozívnymi plynmi. Izostatický grafit sa používa na výrobu:

● Susceptory s povlakom SiC: Poskytujú oporu substrátu počas epitaxie SiC, čím zaisťujú vynikajúce rozloženie tepla a stabilitu povrchu v extrémnych podmienkach.

● Grafitové lopatky a držiaky doštičiek: Zaisťujú doštičky počas rotácie a prúdenia plynu, čím zabezpečujú rovnomernú rýchlosť rastu a hrúbku vrstvy.

● Komponenty procesných rúrok: Štrukturálne grafitové časti vo vnútri epitaxných reaktorov odolávajú agresívnemu prostrediu a zároveň si zachovávajú čistotu.

Kľúčová úloha: Izostatický grafit v SiC epitaxii poskytuje rozmerovú presnosť, chemickú odolnosť a spoľahlivé tepelné riadenie, čo priamo ovplyvňuje výťažnosť doštičky a rovnomernosť epitaxnej vrstvy.

Ako popredný dodávateľ vysoko čistého izostatického grafitu v Číne sa spoločnosť Semixlab zaväzuje poskytovať pokročilé produkty a technické riešenia pre priemysel spracovania polovodičov. Kedykoľvek vítame vaše otázky a úprimne dúfame, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom.